Мониторинг рынка цен № 2510405 
поставка оборудования в рамках реализации в 2020 г. плана мероприятий дорожной карты «Квантовые вычисления»

НаименованиеПланируемая дата поставкиДата начала поставкиСтрана доставкиРегион доставкиКод ОКТМОКоличествоЕдиницы измеренияКоличество участников
101Система управления квантовым компьютером на холодных ионах кальция в режиме реального времени31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
102Высокоскоростная система управления экспериментом31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
103Комплект радиочастотных компонентов31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
104Комплект СВЧ компонентов и приборов31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
105Набор электронных компонентов и модулей31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
106Набор усилителей и радиочастотных компонентов31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
107Управляемый коммутатор СВЧ сигналов USB-1SP16T-83H или аналог31.12.202215.12.2020RU450000001ШТ0
108Комплект широкополосных усилителей и СВЧ компонент31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
109Высокоскоростной импульсный источник лазерного излучения Taccor tune 10 или аналог31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
110Кольцевой титан-сапфировый лазер с активной стабилизацией относительно внешнего эталона Фабри-Перо с использованием внутрирезонаторного электрооптического модулятора (ЭОМ)31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
111Пассивно-стабилизированный Ti:Sa Кольцевой Лазер с высоким качеством пучка Matisse CR или аналог31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
112Пассивно-стабилизированный титан-сапфировый лазер с кольцевым резонатором Matisse CR с опциями BB-OPT, BSH-1, BSH-2, RP-030, Millenia legs, WM-COUP-C, WM-Collimator, C-baseplate-S или аналог31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
113Кольцевой титан-сапфировый лазер с активной стабилизацией относительно внешнего эталона Фабри-Перо с использованием внутрирезонаторного электрооптического модулятора (ЭОМ) Matisse CX с комплектом опций: MOS-1; MOS-2-BB; MOS-3; MATISSE BSH-1; MATISSE BSH-2; RP-030; MILLENIA LEGS C-BASEPLATE L; WM-COLLIMATOR; WM-COUP-C или аналог31.12.202215.12.2020RU450000002КМП0
114Установка реактивного ионного травления с источником индуктивно-связанной плазмы PlasmaPro100 для травления кремния, оксидов и нитридов31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
115Установка реактивного ионного травления с источником индуктивно-связанной плазмы PlasmaPro100 для травления металлов31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
116Кластерная двухкамерная установка реактивного ионного травления с источником индуктивно-связанной плазмы PlasmaPro100 для глубокого травления кремния и стековых структур31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
117Установка плазмохимического осаждения с источником индуктивно-связанной плазмы PlasmaPro100 для осаждения диэлектриков31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
118Установка плазмохимического осаждения PlasmaPro100 с высокотемпературным электродом для осаждения диэлектриков31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
119Установка совмещения и сращивания пластин AML AWB-04 (или аналог)31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0
120Установка высокоточного стилусного профилометра KLA P‐17 или аналог31.12.202215.12.2020RU450000001КМП0

<< Предыдущая страница | Следующая страница >>
1  2  3  4  5  6  7  8