Request for Proposals No. 3143582 
Execution of the work "Development of the technological process and the formation of a photoresistive mask on silicon wafers with a diameter of 150 mm and a thickness of 1000 microns"

Зарегистрируйтесь, чтобы просматривать заявки, разъяснения организатора и скачивать документацию.

Зарегистрироваться за 5 минут